Предназначен для получения защитного рельефапри изготовленииизделий потехнологическому процессу, использующему процессыфотолитографии (печатные платы и т.п.) Спектральная чувствительность фоторезистаМПФ-В Щ находится впределах 320 - 420 нм. Представляет собойтрехслойный материал, состоящий изполиэтилентерефталатной основытолщиной 20мкм, на которую нанесенсветочувствительный окрашенный слойиз фотополимериз ующейсякомпозиции, а на него защитный слой изполиэтиленовой пленки то лщиной40 мкм, Сухой пленочный фоторезистявляется малоопасным прод уктом. Является горючимнесамовоспламеняющимся материалом, горит п риподнесении открытогоогня, невзрывоопасен. Раствор светочувствит ельной композициифоторезиста являетсямалотоксичным продуктом, относит ся к 4 классуопасности. Выпускается в рулонах, размерами: 0.59х70 ; 0.45х70; 0.40х70; 0.30х70; 0.25х70; 0.20х70 м. Внешний вид: повер хностьсветочувствительного слоя фоторезистагладкая и однородная, ярковыраженного цвета, без воздушных имеханических включений инаплывов.Гальваностойкость экспонированного фоторезиста обеспечиваеткачественное осаждение слоя металла из электролита с рН менее 7.Химическа я стойкость экспонированного фоторезистаобеспечиваетобработку в раств орах с рН не более 10 в течение неболее 2 мин. притемпературе 20+-5 г рад.С.